周日出血价德谦NUOSPERSE?FX9086润湿分散剂

概 述  NUOSPERSE?FX9086分散剂设计是用于色浆,且对溶剂型涂料和应用提供了极为稳定的颜料分散.

性 质

（本资料仅供试验参考,若需详细产品检验技术指标,请与本公司联系.）

组成     ：  高分子表面活性剂

外观     ：  透明液体 (20℃)

有效成份 :   约50％

溶解度   ： 可溶于二、丁醇、石油溶剂及各种芳香族和脂肪族溶剂,不溶于水.

粘度     ：  ≤200 mpa.s (25℃)

比重     :   约1.01

闪燃点   ：  约42℃

特性与用途

NUOSPERSE?FX9086为一种独特的AB型共聚物,提供的抗絮凝稳定性.这些特性使其在颜料分散体、着色剂或是广泛的涂料用色浆上受到特别的青睐.

NUOSPERSE?FX9086的高分子特性和同一分子内存在多重吸附锚定基团,确保与颜料表面强烈的相互作用.

NUOSPERSE?FX9086可吸附各种的颜料表面上.结构中的脂肪链可透过熵排斥力来防止絮凝.

NUOSPERSE?FX9086的结构与树脂、脂肪族或芳烃族溶剂都相容,已应用于高性能的色浆制备.

多重活性基团结合在整体分子结构上赋予NUOSPERSE?FX9086具有分散与稳定无机和有机颜料的功效.

应用领域

着色剂,色浆分散,在溶剂型涂料中的颜料分散.

添加量与使用方法

作为色浆或着色剂的分散剂. NUOSPERSE?FX9086的使用浓度范围应该在5-35％之间(根据色浆或着色剂的总重来计算).

NUOSPERSE?FX9086在颜料添加之前先添加到溶剂或树脂/溶剂混合物中.用量应由试验来决定,取决于几个因素.如颜料表面特性、溶剂、树脂和所需的涂料性能.

储 存

远离热及火源.

置于阴凉通风处,容器保持紧密.

安 全

本产品须小心操作,避免接触皮肤和眼睛.在使用该产品前请参阅相关的物质安全资料表.

德谦消泡剂：2700、3100、3500、3150、3600、3200、5300、5400、5500、5600、5800F、VP-6510、6600、5700、6500、6800、6801、8700

德谦分散剂：903、904、904S、912、923、926、929、931、983、9100、657、9086、9250、9300、9850

德谦流平剂：435、407、410、411、431、432、433、435、437、455、457、466、468、475、495、810、825、835、836、837、839、863、871、872、875、866、876、879、880、882、8629 、TSP

德谦水性助剂：W-18、W-19、W-20、W-511、W-518、W-519、W-920、W-922、W-9700、WT-102、WT-105A、WT-133、WT-155、WT-116、WT-201、WT-202、WT-203、WT-204、WT-206、WT-207、W-052、W-074、W-082、W-090、W-092、W-094、W-098、W-0505、W-0506、MB-11、MB、16、MA-98、W-409、W-461、W-469、23F、HD230、M04615、W-2340、EH-801、EW-5303

德谦附着增进剂：1031、1032、1051、1121、ADK、ADP、ADW、PPB

TEGO  Foamex 808

高效高相容性消泡剂乳液，附脱泡性能，非常适合于无空气喷涂和有空气喷涂。

TEGO  Foamex 810

高效消泡剂浓缩液，有效消除微泡和大泡，适用于研磨阶段使用、也用于调稀阶段加入，与大多数基料有优异的相容性，无溶剂，特别适用于水性体系，也适用于辐射固化体系。

TEGO  Foamex 822

高相容性消泡剂乳液，高效及高相容性，长效性佳，适宜于调稀阶段加入，可用于清漆和色漆，适用于水性体系。

TEGO  Foamex 845

高效消泡剂乳液，适用于水性罩光漆，凸印和凹印，有效防止起泡形成和使气泡破裂。

TEGO  Foamex 1488

高效水性体系通用型消泡剂乳液，高效及良好的长效性，特别适用于着色体系。

TEGO  Glide  410

提高表面滑度、兼具基材润湿性、改善抗刮伤性、强防缩孔、对消光剂排列性佳、防发花、防粘连，适用于水性体系、辐射固化体系和溶剂型体系。

TEGO  Glide  420

适用于溶剂型和无溶剂型（双组份）体系、脱泡破泡性佳。热稳定性好、重涂性好。

TEGO  Glide  432

特别适用于辐射固化体系、突出的基材润湿性、提高抗擦伤、高效、不稳泡。

TEGO  Glide  435

流动及平滑性佳、基材润湿性佳、改善抗擦伤、高效、低稳泡、适用于水性体系、辐射固化体系和溶剂型体系，特别适用于辐射固化体系。